在日新月异的科技浪潮中，泛半导体行业以其广泛的应用领域和关键性的技术支撑，成为引领现代工业发展的重要力量。其中，集成电路、平板显示、LED、太阳能电池、分立器件以及半导体设备材料产业等细分领域，共同构成了这个充满活力的行业生态。

在这些领域中，半导体的制作流程尤为关键，其中沉积步骤更是不可或缺的一环。沉积，即将导电、隔离或半导体材料的薄膜精确沉积在晶圆上，为后续的工艺奠定坚实基础。传统的化学气相沉积（CVD）技术，以其高效、稳定的特点，在半导体制造中发挥着重要作用。

然而，CVD工艺在产生目标产物的同时，也会释放出废气，这些废气成分复杂，含量高，且具有较强的毒性和腐蚀性。例如HCl、ClF3、HF以及自燃性气体SiH4等化合物气体，不仅危害生产环境，更对操作人员的身体健康构成威胁。

为了应对这一挑战，天得一公司凭借其深厚的技术积累和丰富的实践经验，推出了高效、可靠的废气治理方案。通过采用不同型号的Local Scrubber＋复合式组合工艺处理，我们能够有效去除废气中的有害物质，使其达到可排放的尾气处理标准。这不仅保护了生产环境，也为企业的可持续发展提供了有力保障。

选择天得一，就是选择安全、高效与可靠的废气治理方案。我们致力于为客户提供最优质的服务，共同推动泛半导体行业的绿色、健康发展。