CVD即化学气相沉积，是利用气态物质，在固体表面进行化学反应，生成固态沉积物的工艺过程。CVD是当今半导体工业中应用最为广泛的用来进行沉积制备所需薄膜材料的技术，如半导体薄膜、介质薄膜、金属薄膜等，在CVD制成中，根据不同的薄膜材料需要向反应室内通入两种或两种以上的气态原材料，特气气体源包括：氢气、氮气、氧气、氩气、氯化物、硼化氢、金属有机化合物。

CVD过程中从反应室中排出的废气，即称为VCD废气。其成分包括未反应的原料气和沉积过程生成的新气态产物。CVD废气主要包括五大类，还可能伴随有颗粒物污染物，其中有害气体的成分复杂且含量极高，因此CVD废气必须要进行有效的治理后，方可排放，否则将严重污染大气环境和危害人类身体健康。

天得一致力于工业废气治理技术的研究与创新20年，基于本身丰富的工业废气治理实践，为半导体企业提供专业的CVD废气治理解决方案。我们将根据客户CVD废气成分，有针对性的进行治理方案设计。在为国内某大型半导体企业提供CVD废气治理服务中，通过分析，其CVD废气中主要含有氢气、甲基三氯硅烷（MTS）、甲烷、丙烷、丙烯、HCI和HF等危险性气体，我们设计了Local Scrubber+洗涤塔+除雾+活性炭吸附组合工艺对CVD废气进行治理。

CVD废气首先经过Local Scrubber净化系统进行处理，Local Scrubber净化系统与CVD生产系统在智能系统的控制下进行联动，实现对一般有机废气和毒腐气体进行智能切换，CVD废气在经Local Scrubber净化系统处理后，排入中央废气处理系统，与一般有机废气混合在一起进行集中处理后达标排放。整套系统通过多技术的综合应用，实现对CVD废气进行安全、高效、稳定的处理。

天得一坚持技术环保，为客户创造价值，助力半导体企业绿色低碳生产，为人类可持续发展贡献力量。