半导体行业废气治理:常见的废气类型与高效治理技术

发布日期:2025-02-08 来源:天得一 阅读量:302

在科技飞速发展的当下,半导体作为现代电子产业的基石,重要性不言而喻。然而,半导体生产过程中产生的工业废气,给环境带来了不小的挑战。接下来,让我们跟随天得一小编深入了解半导体行业主要的工业废气类型及其治理方式。

半导体行业废气治理

酸碱废气治理:在半导体制造的清洗、蚀刻等环节,酸性与碱性废气相伴而生。酸性废气包含硫酸雾、氢氟酸、盐酸等强腐蚀性气体,碱性废气则以氨气最为常见。这些废气若未经处理直接排放,不仅会损坏生产设备,危害人体健康,还会对大气环境产生负面影响,如引发酸雨。针对酸碱废气的特性,天得一利用酸碱中和、多级吸收和吸附、常温催化氧化等工艺,深度净化酸碱废气,确保排放达标,为半导体生产营造绿色环境。


CVD 废气治理:CVD 工艺在半导体制造中至关重要,但其产生的废气成分复杂、治理难度大。天得一采用高效真空泵抽取 CVD 废气,先经 Local Scrubber 净化装置初步处理,去除大颗粒污染物和部分有害成分,随后进入 Central Scrubber 深度治理。这里采用冷凝、燃烧、除尘、洗涤、吸收、吸附和静电等多种净化方式协同作业,确保 CVD 废气达标排放,满足半导体生产的环保需求。

半导体行业废气治理

有机废气治理:光刻、涂胶显影等半导体生产工艺会使用大量有机溶剂,产生以非甲烷总烃、苯系物、硅烷等挥发性有机物(VOCs)为主的有机废气。这些有机废气不仅具有挥发性,还可能有毒,天得一运用吸附浓缩 + 催化燃烧技术,先通过吸附剂浓缩低浓度有机废气,再利用催化燃烧技术将其分解为二氧化碳和水,处理效率高达 98%。


含氟废气治理:在等离子蚀刻等特殊工艺中,会产生四氟化碳、六氟化硫等含氟废气。这类气体温室效应潜能值高,还会破坏臭氧层,治理难度大。天得一自主研发含氟废气处理工艺,结合化学沉淀和吸附技术,有效去除废气中的氟化物,降低对环境的影响。


半导体行业的发展离不开环保的支撑,高效治理工业废气是实现可持续发展的关键。天得一将继续秉持创新精神,不断优化和完善废气治理技术,为半导体行业以及更多工业领域提供优质、高效的环保服务,助力产业绿色发展,守护我们的蓝天白云。